| 加工定制：是 | 作用对象：铝合金 | 工艺类型：翻砂铸造模 |
| 适用范围：电子、 餐具、 其他 |
● PVD涂层具有***的硬度，但大部分厂商的涂层都因为太硬而一开始切削就在刃口崩落了。纳米涂层的研发工程师在厚的高硬度h膜下设计了一层应力吸收S膜，大幅增加了硬膜的稳定性，让刀具寿命提升2到5倍，是涂层产业的创举。刃口硬涂层没有微崩，切削出来的产品表面更光亮，符合高精度切削要求。
● 针对高速与干式切削带来的大量温度问题，纳米涂层在高硬度h膜上设计了一层抗高温的R膜，让切削热尽量排斥在刀具外面，大部分热量被切屑带走。
● 好表面还需要针对被加工的材料设计一个低摩擦系数的L膜，不同粘性被加工材如不锈钢、钛合金、高温合金等需要设计不同的L膜。
氮化钛涂层是自PVD技术发明以来，好常见的一种涂层，具有较高的性价比，也是在过去的年份中运用好广泛的一种PVD涂层,它具有较高的薄膜硬度。用磁控溅射方法沉积的氮化钛沉积速度慢，表面颗粒小所以表面光滑，而且液滴等表面缺限少,但是表面硬度较低。用磁控阴极弧的方法沉积的氮化钛，沉积速度快，但表面颗粒大，所以表面光洁度较差，液滴等表面缺陷也较多，但是可以获得较高的表面硬度。
客户需要根据产品特性和要求来决定采用何种方法获得氮化钛（TIN）涂层。胜倍尔***镀膜的镀膜机自身带有增强型磁控溅射和磁控阴极弧两种方法，可以灵活根据工件来选择不同的方法获得氮化钛（TiN）涂层。
氮化铬是什么
中文名称氮化铬
CAS NO.12053-27-9
英文名称 chromium nitride
英文别名 Chromium nitride (Cr2N); Chromium nitride; Dichromium nitride; chromic nitrogen(-3) anion[1]
EINECS 246-016-3
PVD的全写为Physical Vapor Deposition,中文翻译为物***相沉积. 采用阴极电弧等离子体沉积技术。阴极电弧等离子体沉积是相对较新的薄膜沉积技术，它在许多方面类似于离子镀技术。其优点：在发射的粒子流中离化***，而且这些离化的离子具有较高的动能（40-100eV)。许多离子束沉积的优点，如提粘着力，增加态密度、对化合物膜形成具有高反应率等优点在阴极电弧等离子体沉积中均有所体现。而阴极电弧等离子体沉积又具有自己一些独特优点，如可在较多复杂形状基片上进行沉积，沉积***，涂层均匀性好，基片温度低，易于制备理想化学配比的化合物或合金。
通过蒸发过程将阴极材料蒸发是源于高电流密度，所得到的蒸发物由电子、离子、中心气相原子和微粒组成。在阴极电弧点，材料几乎***被离化，这里离子在几乎垂直于阴极表面的方向发射出去，当带有高能量的铬离子碰到氮气后便会马上产生化学反应，变成气态的氮化铬分子了。
氮化钛百科介绍
由于氮化钛具有高熔点、高硬度、高温化学稳定性及优良的导热性能、导电性能、光学性能、生物相容性，适用于耐高温、耐磨损、低辐射玻璃涂层及医学领域。手饰工业上用氮化钛作金色涂料，主要用于涂表壳。
【中文名称】氮化钛
【英文名称】titanium nitride
【密度】5.43
【熔点（℃）】2950
【性状】有二氮化二钛(Ti2N2)和四氮化三钛(Ti3N4)两种。二氮化二钛为黄色固体。溶于煮沸的王水。遇到热的氢氧化钠溶液则有氨放出。四氮化三钛的性质与二氮化二钛相似。
【制备或来源】可由钛和氮在1200℃直接反应制得。涂层可由四氯化钛、氮气、氢气混合气体通过气相沉积法形成。二氮化二钛由金属钛在900～1000℃的氮或氨中加热而得。四氮三钛由四氯化钛在1000℃的氨中加热而得。
氮碳化钛好专业的介绍
TiCN 具有比 TiN ***的摩擦系数和更高的硬度 , 镀了氮碳化钛的工具更加适合于切割如不锈钢 , 钛合金和镍合金等坚硬材料，更具耐磨性和高温稳定性，可***提高刀具的寿命。 性质：深灰色粉末。具有较低的内应力，较高的韧性，良好的润滑性，以及高硬度、耐磨损等特性，适用于要求较低的摩擦系数及较高硬度的场合。
